工業過程激光氣體分析儀是基于激光吸收光譜技術，用于在線監測工業過程中氣體成分和濃度的儀器，具有快速、精準、抗干擾等優勢。以下是相關介紹：

工作原理

主要基于朗伯 - 比爾定律，通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。半導體激光穿過被測氣體時，其光強會因氣體的吸收而衰減，氣體濃度越高，光強衰減越大，通過測量光強衰減程度即可得出氣體濃度。

技術特點

抗干擾能力強：不受背景氣體交叉干擾，也不受粉塵與視窗污染的影響。

自動補償：可自動修正溫度、壓力對測量的影響，保證測量準確性。

響應快速：響應時間可低于 1 秒，能實時在線監測氣體濃度變化。

測量范圍廣：檢測范圍極寬，從 PPB 到 % 的濃度范圍都可以分析。

主要類型

原位型：激光原位測量，響應速度快，測量精度高。集成式正壓防爆設計，安全可靠，且模塊化設計便于現場更換功能模塊，維護方便。

旁路型：激光旁路測量，測量精度高，抗干擾能力強。光學非接觸測量，可直接測量高溫、強腐蝕性氣體，旁路處理裝置簡單、可靠，可直接安裝在過程管道處。

分布型：分布式激光測量，支持八個測量通道，性價比高。測量通道有獨立激光測量模塊，可靠性高，可網絡化集中顯示和控制，監控方便。

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